實(shí)驗(yàn)室真空鍍膜設(shè)備采用封閉的系統(tǒng)框架，外觀漂亮，使用安全。4～12組蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)。廣泛應(yīng)用于高校材料、物理、化學(xué)、電子、能源等相關(guān)學(xué)科以及科研院所制備高質(zhì)量功能薄膜、蒸鍍電極等，特別適合OPV/鈣鈦礦/無機(jī)薄膜太陽能電池、半導(dǎo)體、有機(jī)EL、
OLED顯示研究與開發(fā)領(lǐng)域。
主要特點(diǎn)/優(yōu)勢：
★ 封閉的系統(tǒng)框架設(shè)計，外觀更漂亮，使用更安全；是一臺兼具美學(xué)和用戶操控體驗(yàn)的全新升級產(chǎn)品；
★ 前開門真空腔體，方便取放基片、更換蒸發(fā)舟、添加蒸發(fā)材料以及真空室的日常維護(hù)；
★ 1200L/s分子泵作為主抽泵，真空極限高達(dá)8×10-5Pa(6×10-7Torr)；另可選進(jìn)口磁懸浮分子泵或者低溫泵作為主抽泵，真空極限高達(dá)3×10-6Pa(2×10-8Torr)；
★ 4～12組水冷式蒸發(fā)電極，可長時間穩(wěn)定工作，兼容金屬材料與有機(jī)材料的蒸發(fā)源設(shè)計，源間有防止交叉污染隔板；
★ 專業(yè)真空蒸發(fā)電源，恒流/恒功率控制。電流、功率可以預(yù)先設(shè)置，可實(shí)現(xiàn)一鍵啟動和停止的自動控制功能；
★ 最大140mm基片/15～25mm ITO/FTO玻璃25片/球形樣品架，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；基片臺公轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速0～25rpm連續(xù)可調(diào)；
★ 襯底可選擇加熱或水冷，源基距最大350mm；
★ 更優(yōu)的薄膜均勻性和重復(fù)性，采用進(jìn)口膜厚監(jiān)控儀在線監(jiān)測和控制蒸發(fā)速率、膜厚；
★ 可沉積金屬(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金屬、化合物(MoO3, LiF等)及有機(jī)物材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；
★ 設(shè)備集成度高，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小(1.28平米)；設(shè)備配腳輪，方便移動和定位。
產(chǎn)品型號：
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